СИЛИЦИРОВАННЫЙ ГРАФИТ
графит,
насыщенный кремнием. Производится обработкой пористого графита в кремниевой
засыпке при 1800-2200 °С (при этом пары кремния осаждаются в порах). Состоит
из графитовой основы, карбида кремния и свободного кремния. Сочетает свойственную
графиту высокую термостойкость и прочность при повышенных темп-pax с плотностью,
газонепроницаемостью, высокой стойкостью к окислению при темп-pax до 1750
°С и эрозионной стойкостью. Применяется для футеровки высокотемпературных
печей, в устройствах для разливки металла, в нагревательных элементах,
для изготовления деталей авиац. и космич. техники, работающих в условиях
высоких темп-р и эрозии.
А Б В Г Д Е Ё Ж З И Й К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Ц Ч Ш Щ Ъ Ы Ь Э Ю Я